涂胶显影机

涂胶显影机是集成了手动旋涂机和晶圆显影机功能的设备,能够实现各种衬底材料和形状的光刻胶涂覆和显影,可以处理粘滞度小于1cps到55000cps的光刻胶,适合于日常研发和小规模生产。

涂胶显影机采用旋涂法涂胶
在旋涂法中旋转衬底被均匀地涂以溶液。 溶液，如光致抗蚀剂，通常分注在晶圆中心。 .然后加速度、zui终转速和各步骤的持续时间使得涂料的一部分经离心分离形成厚度均匀的膜。 除了工艺参数外，溶液或光致抗蚀剂的物理性质决定了膜的厚度。
涂胶显影机采用浸置式显影
在此工艺中，一定量的显影剂被滴在曝光后的衬底上，并通过适度的旋转分散开。 显影液因其表面张力在晶圆上形成凸状的液面（“Puddle”）。 当显影时间结束后，通过提高旋转速度甩干晶圆上的显影液。 然后，用去离子水冲洗晶圆并同样提高转速甩干。 这种方法的you点是，只需使用少量显影液，就能提供you异的显影结果。

浸置式显影法不得用于显影液达到饱和时，例如当必须除去大量显影后的光刻胶时或者凹凸图形阻碍了*换显影液时。 在这些情况下，需多步使用浸置式显影或者使用喷涂式显影 。