电感耦合等离子体发射光谱仪OES-2000用于检测分析痕量金属,是国外
电感耦合等离子体发射光谱仪厂家推出的
高性价比电感耦合等离子体发射光谱仪品牌,
电感耦合等离子体发射光谱仪价格做到在进口
ICP-OES光谱仪品牌中zui低。
电感耦合等离子体发射光谱仪OES-2000工作原理
将分析物样品作为气溶胶引入到
电感耦合等离子体发射光谱仪OES-2000中，该气溶胶携带在等离子体离子化氩气的中心。过热的氩气激发样品中的离子和原子，其发射特征波长的可检测量的光。发射强度与检测到的元素的浓度成比例。
电感耦合等离子体发射光谱仪OES-2000可以编程为径向和轴向视图。对环境样品中的较高浓度元素如铝，钙，铁，镁，钾和钠而言较不敏感的径向观点是较hao的，而对于较低浓度的元素如过渡系列，*为敏感的轴向视图是较hao的。
电感耦合等离子体发射光谱仪OES-2000zui有效的系统允许等离子体在双重视图中进行单次分析，提供zui高的上线性范围和zui佳检测限。
电感耦合等离子体发射光谱仪you点
进口直读光谱仪OES-2000可以一次分析多个元素，并且与原子吸收
光谱仪（AAS）和石墨炉原子吸收
光谱仪（GFAAS）相比具有*长的线性范围.OES-2000的线性范围为4至6个数量级，而AAS和GFAAS范围从2到3个数量级。由于等离子体的高温，它具有比AAS或GFAAS*少的化学干扰，并且由于其样品引入模式，其具有较少的基质干扰。此外，OES-2000有多种排放线可供选择，以减少其他元素的干扰，提高灵敏度。
电感耦合等离子体发射光谱仪应用
石化
冶金
地质与采矿
制药
电感耦合等离子体发射光谱仪OES-2000技术规格
分析速度：约200线/分钟
预热时间：<20分钟（待机模式点火等离子体）
样品消耗量：zui少2ml
精度：RSD≤0.5％（1-10ppm）
线性动态范围（LDR）：高达105（Mn257.6nm，相对相关≥0.999）
重复性：
2小时RSD≤1％（1-10ppm）
8小时RSD≤2％（1-10ppm）
波长：165-870nm全谱
像素分辨率：0.002nm
焦距：380mm
氩消耗：正常分析时为12L / min
光学分辨率（FWHM）：200 nm时的7 pm检测器读出噪声：2.0e-rms
射频发生器功率：750-1600w
电源：220±10％V AC，50-60Hz
功耗：≤4.5kw
工作温度：10-30℃
环境湿度：20-80％R.H.
尺寸：935mmx732mmx659mm
重量：98kg
电感耦合等离子体发射光谱仪OES-2000检测极限能力
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电感耦合等离子体发射光谱仪OES-2000特征
样本介绍系统
电感耦合等离子体发射光谱仪OES-2000包括12通道3通道计算机控制的蠕动泵，自动调节速度为0-125rpm。 OES-2000配有标准的玻璃同心雾化器和玻璃旋风喷雾室，同时为HF /盐含量高的分析物提供耐高温的雾化器和喷雾室。
电感耦合等离子体发射光谱仪OES-2000光谱仪
多色板：2D Echelle光栅，每公里52.91线，63.4度的火焰角。
恒温光学：整个光学系统封装在36℃±0.5℃的恒温箱中，用氩气或氮气（UV区域）吹扫。
重新校准：碳，氮和氩元素的光谱在每次点火期间用于自动波长校准。如果等离子体不需要校准溶液或者没有校准消耗品或预热灯的汞/氖灯。
电感耦合等离子体发射光谱仪ICP系统
电感耦合等离子体发射光谱仪ICP系统包括自由运行的固态RF发生器，负载线圈，可拆卸石英手电筒和自动控制的气流。 RF发生器可连续调节从750到1350瓦（双），zui大可达1600瓦特（径向）。耦合效率大于80％，输出功率稳定度变化≤0.1％，输出频率稳定度变化≤0.01％。 RF发生器产生频率为27.12MHz的振荡电磁场。该辐射被引导到传递到割炬的负载线圈。流过手电筒的氩气将在RF场中形成等离子体。等离子氩气，辅助氩气和喷雾器氩气以完全集成的气体流量进行调节，并以0.01ml / min的增量由MFC自动控制。
电感耦合等离子体发射光谱仪探测器
电感耦合等离子体发射光谱仪具有百万像素的低温区域阵列电荷耦合器件（CCD）检测器，具有独特的背照式技术，在UV区域的平均量子效率大于75％。三级热电冷却器（TEC）配备可将低温温度降至-45℃，冷却时间<3min。检测器的防起霜功能在像素级别。
电感耦合等离子体发射光谱仪等离子体观察
在双重视图类型的
进口直读光谱仪OES-2000中，等离子体的观察通过计算机控制位于光路中的反射镜来实现，并允许选择轴向，径向或混合观察模式，并且在垂直和水平方向上调整等离子体观察飞机。
电感耦合等离子体发射光谱仪软件
使用全频谱采集所有检测到的元素进行定性，半定量和定量分析，并通过强大的SQL Server数据库进行增强，确保原始数据的完整性和操作的可追溯性。 可以选择超过50,000行的光谱基，每行至少30个像素，以进行检测。
多方法干扰校正包括标准比较法，内部标准法，干扰元素相关法（IEC）和标准补充。 仪器校准支持等离子体炬准直，光源you化等
。
